マテリアル インテグレーション 2003年6月号 特集 フォトニクスデバイスの開発 巻頭言 京都大学大学院工学研究科 教授 平尾 一之
20 世紀後半から始まった高度情報化社会の出現を可能にした最も大きな要因は,IC(Integrated Circuit,集積回路)を基本とする半導体集積化技術の発展に他ならない.たとえば,発明当初には一部屋を占有していたコンピューターは,持ち運びが楽に出来るサイズにまで改良された.このような半導体を利用した技術の隆盛が20 世紀後半をエレクトロニクスの時代に変えたわけである.しかし,電子による情報の処理時間や方法には限界がある.それを改良するための技術として有望視されているのが,エレクトロニクスに光技術を取り込んだ光エレクトロニクス,あるいは光技術に重点をおいたフォトニクスと呼ばれる光学技術である.フォトニクスでは光信号の伝送,増幅,記録,スイッチ等,電気回路と同様のデバイスやシステムが求められる.エレクトロニクスで実現しているICやLSI(Large ScaleIntegrated Circuit,大規模集積回路)に相当する光集積回路が作製されれば,光コンピューターの開発も促進されるであろう.また,現在の大都市間を結ぶ幹線系光通信の主流は,一本のファイバーで波長の異なる多くの光信号を一度に伝送することが出来る波長多重(WDM, Wavelength Division Multiplexing )方式である.この技術がやがては都市の内部,すなわちメトロ系でも使われようとしており,現在のADSLの10倍以上の速度の通信が各家庭でも可能になる.WDM 方式では,いくつかの波長の光信号を合わせたり分けたりするデバイスが必要である.合分波デバイスでは信頼性の高いガラス材料で形成された光導波路型が多用されているが,幹線系用に開発されたデバイスは大規模で高価なものが多く,メトロ形で強く求められる低コスト化と小型化には向かない.すなわち,メトロ形で使用される光デバイスの多くは,マンホールの中や電柱に設置されるため,狭い場所に収納でき,かつ温度や湿度の変化に対して安定でなければならない. |